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Product Center等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)表(biao)(biao)(biao)面(mian)處理(li)儀廠家(jia)直供作為一種微(wei)觀(guan)固(gu)體表(biao)(biao)(biao)面(mian)的(de)(de)處理(li)設(she)設(she)備(bei),是(shi)(shi)一種全新的(de)(de)表(biao)(biao)(biao)面(mian)處理(li)方案。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體是(shi)(shi)物質(zhi)的(de)(de)一種狀態(tai),也叫做物質(zhi)的(de)(de)第四態(tai)。對氣(qi)體施加足夠的(de)(de)能量使之離(li)(li)化便成為等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)狀態(tai)。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)體的(de)(de)“活性"組分包括:離(li)(li)子(zi)(zi)、電子(zi)(zi)、活性基團、激(ji)發(fa)態(tai)的(de)(de)核素(亞(ya)穩態(tai))、光子(zi)(zi)等(deng)。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)清洗機就是(shi)(shi)通過利用(yong)這些(xie)活性組分的(de)(de)性質(zhi)來處理(li)樣品表(biao)(biao)(biao)面(mian),從而實現清潔等(deng)目(mu)的(de)(de)。
品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 電子 |
一、等離子表面處理儀廠家直供的產品特點:
(1)鄭科探表(biao)面處(chu)(chu)理設(she)備等(deng)離子清洗(xi)機作為一種(zhong)微(wei)觀(guan)固(gu)體表(biao)面的(de)(de)處(chu)(chu)理設(she)設(she)備,是一種(zhong)全(quan)新的(de)(de)表(biao)面處(chu)(chu)理方案。等(deng)離子體是物質的(de)(de)一種(zhong)狀態,也叫做(zuo)物質的(de)(de)第四態。
(2)對氣體(ti)(ti)施加足夠的(de)能量使之離(li)化便成(cheng)為等(deng)(deng)離(li)子(zi)狀態。等(deng)(deng)離(li)子(zi)體(ti)(ti)的(de)“活(huo)性”組分包括:離(li)子(zi)、電子(zi)、活(huo)性基團、激發態的(de)核素(亞(ya)穩態)、光(guang)子(zi)等(deng)(deng)。等(deng)(deng)離(li)子(zi)清(qing)洗機就(jiu)是通過利用這些(xie)活(huo)性組分的(de)性質(zhi)來(lai)處理樣品表面(mian),從而實現(xian)清(qing)潔等(deng)(deng)目(mu)的(de)。
二、鄭(zheng)科(ke)探表面處理設備等離子清洗機主(zhu)要應(ying)用(yong)于(yu)半導體、鍍膜工藝(yi)、PCB制(zhi)程、PCB制(zhi)程、元器(qi)件封(feng)裝前、COG前、真空(kong)電(dian)子、連接器(qi)和繼電(dian)器(qi)等行業的精密清洗,塑料、橡(xiang)膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命(ming)科(ke)學實(shi)驗等。
三、等離子表面處理儀廠家直供內置高純石英倉體,采用了新型的電極結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗樣品清洗和教學。
四、滾(gun)筒等離子(zi)清(qing)洗(xi)(xi)機針(zhen)對粉末(mo)或(huo)者(zhe)顆粒的360度表面處(chu)理設備,通過旋轉機構帶動石英攪拌罐使樣(yang)品處(chu)于懸空位置達到360度清(qing)洗(xi)(xi)。
設(she)備型號(hao) | KT-Z2DQX | KT-S2DQX | KT-Z5DQX | KT-S2GQX |
供電(dian)電(dian)源 | AC220V(AC110V可選) | |||
工作電(dian)流(liu) | 整(zheng)機工作電(dian)流(liu)不大(da)于3.5A(不(bu)含真空泵) | |||
射頻電源(yuan)功(gong)率(lv) | 1000W | 150W | 300W | 150w |
射頻頻率 | 40KHz | 13.56MHz | ||
耦合方式(shi) | 電容(rong)耦(ou)合 | |||
真空(kong)度 | ≤50Pa | |||
腔體(ti)材質(zhi) | 高純石(shi)英(ying) | |||
腔體(ti)容積 | 2L(內徑110MMX深(shen)度220MM) | 2L(內徑110MMX深度220MM) | 5L(內(nei)徑(jing)160MMX深度310MM) | φ100x200mm |
觀察(cha)窗內徑 | Φ50 | Φ50 | Φ70 | 無 |
氣體流量 | 10—100ml/min(其他(ta)量程可選) | |||
過程控制 | 過程自動控制(zhi) | 過程手動控制 | 過程(cheng)自(zi)動控制 | 過(guo)程手動控制 |
清洗時間 | 自(zi)動開關 | |||
開蓋(gai)方式 | 鉸鏈(lian)側開式(shi)法蘭(lan) | |||
外(wai)形尺寸 | 150*500*250mm | 450*460*370mm | 530*580*420mm |
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重量(liang) | 20kg | 35kg | 40kg | 40Kg |
真空室溫(wen)度 | 小于65°C | |||
冷卻方(fang)式 | 強制風冷 | |||
標(biao)配(pei) | KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹(xiu)鋼網匣1個,電源線一(yi)根,說明書一(yi)本。 |