1. 工(gong)(gong)作頻率：40KHz等離子清洗機的工(gong)(gong)作頻率為(wei)40千赫(he)（40,000赫(he)茲），而13.56MHz等離子清洗機的工(gong)(gong)作頻率為(wei)13.56兆赫(he)（13,560,000赫(he)茲）。工(gong)(gong)作頻率不(bu)同(tong)會導致(zhi)設備清洗效果和適用(yong)范(fan)圍上的差異。

2. 清(qing)(qing)洗(xi)效(xiao)果：40KHz的(de)低(di)頻等離子(zi)清(qing)(qing)洗(xi)對于大(da)多數材料(liao)都(dou)可以達到較好的(de)清(qing)(qing)洗(xi)效(xiao)果，但對于一些微米(mi)或(huo)(huo)亞微米(mi)級別(bie)的(de)顆粒或(huo)(huo)污(wu)染(ran)物去除效(xiao)果可能(neng)不佳。而13.56MHz高頻等離子(zi)清(qing)(qing)洗(xi)則在(zai)去除顆粒尺寸較小的(de)污(wu)染(ran)物方面具有更(geng)高的(de)功效(xiao)，能(neng)夠提供更(geng)優越的(de)清(qing)(qing)洗(xi)效(xiao)果。

3. 清(qing)洗速度(du)：13.56MHz等離子清(qing)洗速度(du)相(xiang)對更快(kuai)，因為具有更高的頻率，能更快(kuai)地(di)傳遞(di)能量，從而(er)更有效(xiao)地(di)去(qu)除(chu)表面(mian)污(wu)垢。

4. 適(shi)用(yong)范圍：40KHz等(deng)離(li)子(zi)清(qing)洗適(shi)用(yong)于(yu)大部(bu)分(fen)材料(liao)(liao)的(de)(de)表面清(qing)洗及去除較大顆(ke)粒(li)尺寸的(de)(de)污(wu)染(ran)物，如塑料(liao)(liao)、金屬、玻璃等(deng)材料(liao)(liao)。13.56MHz等(deng)離(li)子(zi)清(qing)洗則(ze)更適(shi)用(yong)于(yu)對(dui)微米級污(wu)染(ran)物及顆(ke)粒(li)清(qing)洗要求較高(gao)的(de)(de)應(ying)用(yong)，如微電子(zi)、半(ban)導體、光學(xue)等(deng)行業。

5. 成本：由于(yu)13.56MHz等離(li)子清洗技術較(jiao)復雜，設備制造(zao)成本相對較(jiao)高，價格可能會比(bi)40KHz的(de)設備更貴(gui)。但根據(ju)不同(tong)的(de)實(shi)際(ji)應用需(xu)求，適用領域和性能要求可能需(xu)要使用較(jiao)高成本的(de)清洗設備。

綜上所述，40KHz和13.56MHz等離子清洗機主要區別在工作頻率、清洗效果、清洗速度、適用范圍及成本等方面，用戶應根據自身的需求和應用領域選擇合適的設備。