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產品簡介
金屬磁控(kong)濺射儀(yi)， 外形小(xiao)巧 ，功(gong)(gong)率電流大小(xiao)可調(diao)，觸摸屏控(kong)制，有工(gong)藝(yi)儲存功(gong)(gong)能，外配水(shui)冷機可長時間(jian)工(gong)作。
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
金屬磁控濺射儀這是一種易于使用的基本儀器，用于SEM試(shi)樣(yang)的(de)鍍金。它具有全可變電流控制、帶暫停選項的(de)數字過(guo)程定(ding)時器、可變高度試(shi)樣(yang)臺、鉸鏈(lian)頂板和 O 形圈密封真空(kong)室。該(gai)控制裝置(zhi)允許獨(du)立于氣體壓力設置(zhi)濺射電流，氣體壓力由手(shou)動泄漏閥單獨(du)調節。覆蓋面和(he)晶粒尺寸(cun)針對任(ren)何試樣進行了優化(hua),徑目(mu)標的(de)冷磁控管(guan)型磁頭能夠以最小的(de)加(jia)熱(re)實(shi)現高效的(de)濺射(she)。鍍(du)膜時(shi)間由(you)帶有數(shu)字讀數(shu)的(de)定時(shi)器(qi)設置并(bing)存(cun)儲(chu)在存(cun)儲(chu)器(qi)中。真空狀態和濺射(she)電流(liu)顯示在C觸摸屏上。
金屬磁控濺射儀廠家供應技術參數；
控制方(fang)式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控(kong)制 |
濺射電(dian)源 | 直流濺射電源 |
鍍膜(mo)功(gong)能 | 0-999秒5段可(ke)變換功率(lv)及擋板位和(he)樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電(dian)壓電(dian)流 | 電壓(ya)≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘(zhong)） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真(zhen)空(kong) | ≤30Pa |
擋板類(lei)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹(xiu)鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可(ke)旋轉φ62 （可(ke)安(an)裝φ50基底） |
樣品臺(tai)轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調(diao)節距離(li) | 40-105mm |
真(zhen)空測(ce)量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣(qi)口(kou)(kou) ;KF16放氣(qi)口(kou)(kou) 6mm卡套(tao)進氣(qi)口(kou)(kou) |
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