小型濺射儀儀問儀答

最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：

1、膜(mo)(mo)厚檢測(ce)儀原(yuan)理(li)：膜(mo)(mo)厚監測(ce)儀是采用(yong)(yong)石英晶體振(zhen)蕩原(yuan)理(li)，利用(yong)(yong)頻率測(ce)量技術加上(shang)*數學算(suan)法，進行(xing)膜(mo)(mo)厚的(de)在線鍍膜(mo)(mo)速率和實(shi)時厚度計算(suan)。主要應用(yong)(yong)于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控(kong)濺射設備(bei)的(de)薄膜(mo)(mo)制備(bei)過程中，對膜(mo)(mo)層厚度及(ji)鍍膜(mo)(mo)速率進行(xing)實(shi)時監測(ce)。

2、濺射儀是(shi)否可(ke)以鍍(du)鎳：可(ke)以鍍(du)鎳  但(dan)是(shi) 鎳是(shi)導(dao)磁金屬(shu) 所以 需(xu)要靶材盡量薄 0.5mm-1mm最好  太厚磁場無法穿(chuan)透  濺射速率很(hen)低(di)。

3、直流濺(jian)射鍍(du)膜(mo)調(diao)節：1 靶(ba)材需(xu)要(yao)良好的導電性, 如果具(ju)備這(zhe)個條件  可以鍍(du)    2 遇(yu)到容易氧化的金屬(shu) 需(xu)要(yao)配備分子泵把(ba)本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍(du)膜(mo)的金屬(shu)接近本色。

鄭科探小型濺射儀

以(yi)上是小伙伴(ban)近期問的比較多的問題(ti)(ti)，如果還有什(shen)么問題(ti)(ti)歡迎咨詢。