KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功(gong)(gong)率(lv)可(ke)控磁(ci)控濺射儀(yi)，儀(yi)器雖小功(gong)(gong)能齊(qi)全(quan)，配(pei)備(bei)有電(dian)壓(ya) 電(dian)流(liu)反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節(jie)(jie)，及(ji)(ji)電(dian)動(dong)擋板功(gong)(gong)能。通(tong)過定時調節(jie)(jie)預濺射功(gong)(gong)率(lv)及(ji)(ji)薄膜沉積功(gong)(gong)率(lv)，可(ke)對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔(qiang)室為透明(ming)石英玻璃減(jian)少(shao)樣品污染，樣品臺可(ke)旋轉以獲得更均勻的(de)薄膜，可(ke)制備(bei)各種金屬薄膜。

   此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

單靶磁控濺射儀  主要特點：

• 可制備(bei)多(duo)種薄膜，應用廣泛

• 體積(ji)小(xiao)，操作簡便

• 真(zhen)空腔(qiang)室、真(zhen)空泵組整機(ji)模(mo)塊化(hua)設計 ，控制電源(yuan)為分體式設計，可(ke)根(gen)據用戶實際(ji)需要(yao)調整購買需求。

• 可(ke)(ke)根據用(yong)戶實際(ji)需(xu)要選擇電(dian)源(yuan)，可(ke)(ke)以一個(ge)(ge)(ge)電(dian)源(yuan)控(kong)(kong)制(zhi)多(duo)個(ge)(ge)(ge)靶槍，也(ye)可(ke)(ke)多(duo)個(ge)(ge)(ge)電(dian)源(yuan)單一控(kong)(kong)制(zhi)靶槍

磁控濺射頭：

• 儀器中安裝有3個磁(ci)控濺射頭(tou)，而且都帶有水冷夾層(ceng)

• 其(qi)中一個濺(jian)射頭與射頻(pin)電源相連接(jie)，主(zhu)要是濺(jian)射絕緣性靶材

• 另一個濺射(she)頭(tou)與直流電源相連(lian)接，主要濺射(she)導電性靶材

• 可(ke)以單獨訂購RF連接線作(zuo)為備(bei)用

• 設備(bei)包含一臺水冷機，用于(yu)靶頭冷卻

載樣臺：

• 載(zai)樣臺(tai)可(ke)以旋轉(zhuan)

• 載樣(yang)臺高可加熱溫度

真空腔體：

• 真空腔體：采用不銹鋼(gang)制(zhi)作

• 觀察窗(chuang)口：

• 腔體打開方(fang)式采用上頂開，使(shi)得換(huan)靶更加容易(yi)

薄膜測厚：

• 一個精密的石英振動薄膜(mo)測厚(hou)儀安(an)裝 在儀器上，可(ke)實時監(jian)測薄膜(mo)的厚(hou)度，分辨(bian)率為(wei)0.10 ?

• LED顯示屏顯示，同時也輸入所制(zhi)作薄膜的相關數據