多種氣體流量計混合配比器模擬(ni)式(shi)質(zhi)量流量控制器是(shi)是(shi)中國(guo)早的氣體測控產品(pin)(pin)(pin)，迄今為(wei)止已經(jing)30多年。 產品(pin)(pin)(pin)種類50余種，涵蓋數字型(xing)(xing)，普通型(xing)(xing)，大(da)量程型(xing)(xing)，高精度型(xing)(xing)，快響(xiang)應(ying)型(xing)(xing)，耐壓型(xing)(xing)，金屬密封型(xing)(xing)等多種類型(xing)(xing)的需(xu)求(qiu)。產品(pin)(pin)(pin)歷(li)經(jing)市場考驗，廣泛應(ying)用于半導體、真空(kong)(kong)、太(tai)陽能、分析儀器、光電、制氣、石化、醫療(liao)、食品(pin)(pin)(pin)、航空(kong)(kong)電力等行(xing)業(ye)，已經(jing)成(cheng)為(wei)支撐各工業(ye)領域行(xing)業(ye)發展的重要設備。

產品用途;
  多種氣體流量計混合配比器和(he)(he)氣(qi)體質(zhi)量(liang)流(liu)量(liang)計（MFM）用(yong)于對氣(qi)體的質(zhi)量(liang)流(liu)量(liang)進行精(jing)密控制和(he)(he)測(ce)量(liang)。它(ta)們在半導體集成電(dian)路工藝、特(te)種材料、化學工業(ye)、石油工業(ye)、醫(yi)藥、環(huan) 保和(he)(he)真(zhen)空等(deng)多種領(ling)域(yu)的科研和(he)(he)生產(chan)中有(you)著重要的應用(yong)。其(qi)典型的應用(yong)場合(he)包括: 集成電(dian)路工 藝設備(bei), 如外延爐、擴散爐、CVD、等(deng)離子刻蝕機(ji)、濺(jian)射臺(tai)、離子注入機(ji); 以及鍍膜設備(bei)、 光纖(xian)熔(rong)煉設備(bei)、微(wei)反應裝(zhuang)置(zhi)、混氣(qi)配(pei)氣(qi)系統、氣(qi)體取樣(yang)裝(zhuang)置(zhi)、毛細管測(ce)量(liang)儀(yi)、氣(qi)相色譜儀(yi)及 其(qi)它(ta)分析儀(yi)器。

氣(qi)(qi)體(ti)(ti)質(zhi)量(liang)(liang)(liang)(liang)流(liu)量(liang)(liang)(liang)(liang)控(kong)制器(qi)（MFC）和(he)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)質(zhi)量(liang)(liang)(liang)(liang)流(liu)量(liang)(liang)(liang)(liang)計(ji)（MFM）用于對氣(qi)(qi)體(ti)(ti)的(de)質(zhi)量(liang)(liang)(liang)(liang)流(liu)量(liang)(liang)(liang)(liang)進行(xing) 精密控(kong)制和(he)測量(liang)(liang)(liang)(liang)。它們在(zai)半導(dao)體(ti)(ti)集成(cheng)電路工藝、特種(zhong)材料(liao)、化學工業、石(shi)油工業、醫藥、環 保和(he)真空等(deng)多種(zhong)領域(yu)的(de)科研和(he)生(sheng)產中有著(zhu)重(zhong)要(yao)的(de)應用。其典型(xing)的(de)應用場合包括: 集成(cheng)電路工 藝設(she)備(bei), 如外延爐、擴散(san)爐、CVD、等(deng)離(li)(li)子刻蝕機、濺射臺、離(li)(li)子注入機; 以及鍍膜設(she)備(bei)、光纖熔煉設(she)備(bei)、微(wei)反(fan)應裝置、混氣(qi)(qi)配氣(qi)(qi)系統、氣(qi)(qi)體(ti)(ti)取樣裝置、毛細管測量(liang)(liang)(liang)(liang)儀、氣(qi)(qi)相色譜儀及 其它分析儀器(qi)。