;                      鄭科探(tan)小型濺射(she)儀功(gong)能優勢(shi)

1、樣(yang)(yang)品臺旋轉，多樣(yang)(yang)品同時(shi)鍍(du)膜時(shi)，鍍(du)膜厚(hou)度比較均(jun)勻。

2、預濺(jian)射擋板功(gong)能(neng)，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些(xie)雜(za)質，擋板可以保護樣(yang)品(pin)，提高薄膜質量

3、帶有水冷(leng)系統，可以(yi)長時(shi)間濺射(she)鍍膜，厚(hou)度可達1微米(mi)以(yi)上。

4、直流磁控(kong)濺射，提(ti)高附著力，濺射速率快，比離(li)子濺射快上一個量級。針(zhen)對某些金屬最快能(neng)達(da)到(dao)1-2納米(mi)每秒(miao)，

5、不但可(ke)以電鏡制(zhi)樣，還可(ke)以制(zhi)作金(jin)屬電極。

6、可(ke)擴(kuo)展膜厚監測，監測薄(bo)膜厚度。

濺射儀使用需注

1 靶(ba)材(cai)需要良(liang)好(hao)的導電性, 如果具備這個條件  可(ke)以(yi)鍍    

2 遇到容易(yi)氧化(hua)的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣(qi)維持真空到1Pa左右鍍膜(mo)的金屬接近本色(se)