針對(dui)光學(xue)和介電功能薄膜制備中的離化(hua)率(lv)低和靶(ba)面污(wu)染問題,設(she)計了(le)一種磁(ci)控濺(jian)射(she)沉積系(xi)統,系(xi)統包括(kuo)磁(ci)控濺(jian)射(she)靶(ba)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)、等(deng)離子體源(yuan)和陽(yang)極清(qing)洗(xi)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)。

主要結(jie)論有:

(1)在磁(ci)(ci)(ci)控濺射靶裝置(zhi)設計(ji)中(zhong),采(cai)用磁(ci)(ci)(ci)流體(ti)密(mi)封替代橡膠軸承密(mi)封,提(ti)高了(le)靶裝置(zhi)的(de)密(mi)封性,極限真空(kong)度可達(da)10-6 Pa;采(cai)用旋轉磁(ci)(ci)(ci)鋼代替固(gu)定磁(ci)(ci)(ci)鋼,使(shi)靶材的(de)利用率從30%提(ti)高到60%,同(tong)時(shi)(shi)避免了(le)靶裝置(zhi)在預先清洗時(shi)(shi)的(de)污染;設計(ji)了(le)靶裝置(zhi)的(de)驅動(dong)端,完成了(le)電機、傳動(dong)裝置(zhi)和軸承的(de)選型(xing)。

(2)設計等(deng)離子體源來改善沉積系統離化率不足的(de)(de)問題(ti)。選擇0.2 mm鎢絲制成陰極,坩(gan)堝作為陽極。利用(yong)基爾霍夫定律計算(suan)出螺(luo)旋(xuan)管的(de)(de)長度與橫截(jie)面積。比(bi)較了等(deng)離子體源的(de)(de)四(si)種(zhong)電源連接方式,選擇在(zai)螺(luo)旋(xuan)管兩端加入(ru)輔助調節電源,方便(bian)調節電磁場的(de)(de)方式。

(3)設(she)計(ji)(ji)(ji)了(le)陽極(ji)(ji)清洗裝置(zhi)(zhi)來解決磁(ci)控(kong)濺(jian)射中的(de)陽極(ji)(ji)污染(ran)問題。陽極(ji)(ji)清洗裝置(zhi)(zhi)包括(kuo)可旋(xuan)轉陽極(ji)(ji)和(he)清洗裝置(zhi)(zhi)兩部分,設(she)計(ji)(ji)(ji)了(le)多套清洗裝置(zhi)(zhi)協(xie)同(tong)工作時(shi)的(de)電源連接方式。制(zhi)定了(le)冷(leng)卻(que)系統方案和(he)管路(lu)圖來滿(man)足系統的(de)冷(leng)卻(que)設(she)計(ji)(ji)(ji)要求。設(she)計(ji)(ji)(ji)了(le)一套供氣系統,根據設(she)計(ji)(ji)(ji)要求確(que)定了(le)電磁(ci)閥(fa)和(he)質量(liang)流(liu)量(liang)計(ji)(ji)(ji)的(de)型(xing)號(hao)。